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最近两天3条有关中国半导体技术与市场之“突破性进展”的新闻，让不少外媒和台媒聚焦。所引发的思考是，以美国为首的西方国家以中国芯片打压、围堵是否有效？台积电是要彻底倒向美国还是拥抱中国大陆市场？西方越封锁越逼迫，越激发中国人的创造力，越逼着中国加速自己的技术进步，是否在半导体产业也是如此的规律？我们来看看台媒、外媒怎么报道这3条新闻的——

第1

台媒8日综合外媒报道，加拿大产业研究机构TechInsights发布研究报告指出，“中芯国际确实突破7nm（纳米），跨代速度甚至快过台积电”。报告指出，中国最大半导体公司中芯国际技术上获得真正的突破，其7nm技术是真正意义上的7nm技术，实现与英特尔、台积电和三星匹敌的7nm技术突破。而且中芯国际从14nm到7nm只花了2年时间，比起台积电的3年、三星的5年在速度上都更快，何况还是在被美国制裁限制进口EUV光刻机的情况下达成的。

TechInsights上月揭露透过逆向工程分析发现，中国挖矿机公司MinerVa产品使用中芯国际7nm制程技术，这款产品早在2021年7月就已开始出货，分析认为中芯7nm技术可能是复制台积电7nm制程技术。

报道还提及，此前晶片价格大跳水，部分晶片降幅达到惊人的80%，即便如此，中芯国际在2022年上半年的营收增长也已超过5成，达到近246亿元人民币。

第2、

台媒在“头条揭密”栏目中报道，“美日开发无EUV光刻机技术 ASML将更依赖中国市场”。

报道称，美国对中国晶片技术限制是近几年来半导体科技界最受关注的问题，晶片技术禁令涉及层面广泛，其中最具代表性的就是14nm以上先进工艺与用于生产7nm以上晶片的EUV光刻机。不过，今年日本与美国已各有一家企业研究出不使用EUV光刻机的晶片制造技术，这对中国而言可能为受限的晶片技术开辟了2条通道：一是加速研发无光刻机制造技术，二是新技术出现后，中国有更大的机会在这几年内获得先进制程光刻机。

目前全球能光刻机制造主要由荷兰艾斯摩尔(ASML)掌控，尤其是先进工艺所需要的光刻机几乎都是ASML所制造。美国禁令限制极紫外光（EUV）的光刻机出售给中国，同时也想劝服ASML不要再出售深紫外光（DUV）光刻机给中国，但ASML并未同意，今年以来又出口了23台DUV给中国。

2021年中国是ASML最大的客户，购买了290亿美元的ASML光刻机，超过台湾与韩国的250亿美元左右。但未来经济衰退的预期已经让各大晶片制造商大幅削减资本支出，光刻机的市场也会因晶片需求下滑而萎缩，这对ASML来说更是艰巨的挑战。

ASML现在要担心，如果无法加速把EUV卖给急需这项设备的中国，待无EUV光刻机技术更加成熟或扩及其他晶片制造领域，那ASML在EUV项目上就得赔掉不少已投入的开发资金。业界因此盛传ASML正在中国大量召募人手，准备扩大对中国供应光刻机的规模。

3

日媒报道，“晶片禁令摆一边！美欧日半导体设备大厂涌入上海进博会”。

报道称，在全球经济衰退的阴影与美国对华半导体禁令的桎梏下，正在中国上海举办的进博会仍然吸引了大量的西方国家企业参与。虽然对中国出口受限於非尖端技术，但中国仍是不可或缺的市场。日本欧洲的企业也与美国企业步调一致，纷纷在进博会推销各半导体设备。

此次参展的美国半导体企业还有高通、超微（AMD）、英特尔、德州仪器（TI）等，他们纷纷推销用于汽车及伺服器等的半导体，受到中国企业等的相关人士的关注。

除半导体企业外，微软、戴尔、Meta（原Facebook）也参加了此次进博会。

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