韩国编程机器人课,韩国现代机器人编程
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告诉韩国人怎么证明韩国人创造了中国文化:
韩国来自中国战国七雄的韩国,从春秋霸主晋国分裂出来的。按照韩国的“韩国人是东夷人,所以东夷人的所有东西都是韩国人的”理论,所以晋国是韩国的,而晋国又是周的分封国,所以周是韩国的。周朝是皇帝后裔建立的,所以黄帝是韩国的。黄帝是中华文明的人文始祖,所以中华文明是韩国人创造的!
最近张子枫主演的电影《我的姐姐》很火爆,口碑与票房齐飞。
剧中饰演弟弟的小演员金遥源现实中是一个超级富二代。但是很多网友嘲讽其父母为什么让其拍戏进娱乐圈,而且还质疑他的哥哥姐姐为什么都在搞艺术。还有的网友表示我这么有钱的话也能达到这种成就。
这是一个有趣的现象,这个现象多多少少和“仇富”有点关系。
金遥源有两个哥哥一个姐姐。
大哥喜欢编程和机器人还代表中国队参加过世界大赛。二哥喜欢体育,擅长游泳。
三姐喜欢跳舞,气质绝佳。小小年纪就为迪奥和芬迪等奢侈品大牌走秀,还登上过纽约时代广场的大屏。
他们的妈妈也经常在抖音分享几个小朋友的日常生活,也吸引了大量粉丝。
首先,为什么他们家能生四个孩子?因为爸爸是韩国人,四个小朋友是香港户口。
其次,他们家虽然物质条件十分丰厚,家中别墅数十米高,满世界旅游。但是,四个孩子每天的日程却安排的满满当当,密密麻麻。没有一丝喘息的机会。
很多人说,我要这么有钱,我也可以很自律。但是这些说大话的网友却把事情的顺序颠倒了,优秀的人是先自律才会优秀。有钱人也是先约束自己,才会变的优秀。
现实中的大部分人做事拖拖拉拉,早上下床都费劲。怎么变得优秀?所以不要嫉妒人家,他们确实比你优秀。
再者,为什么4个孩子就有3个选择和艺术有关的事业?因为他们不需要为未来的工作发愁、苦恼。
有的人一生都在寻找罗马,他们出生就在罗马。
美国很多富豪以及那些富了好几代的贵族,他们的孩子在大学往往会选择哲学、心理、艺术等专业,就像王思聪,他的专业就是哲学。
因为他们不需要找工作,这些我们眼里所谓的水专业,他们是用来提升自己的气质和精神层次。他们未来只需要有一个好的识人的眼光,选择优秀的基金经理人将家族基金打理的井井有条就足矣。
所以,不要去质疑富豪对下一代的教育观,他们考虑的绝对比普通人多的多。他们知道怎样让下一代变得优秀、出众。
可以羡慕他们,不要嫉妒。他们的每一分钱也都是辛辛苦苦合法途径赚取的。
#八卦手册#
《戳穿ASML13.5纳米光刻机无法逾越的神话》
之所以有这个神话,就是13.5纳米光源只有美国制造,国内只能获得194纳米光源和光刻胶。国产光刻机的理论分辨率是90纳米。而台积电用13.5纳米光源实现了5纳米制程,又在开发3纳米制程!这样的数据对于外行,真的很害怕难以逾越,再加上科学院网站上不靠谱帖子,高校和科学院没有一篇论文,指出光刻机分辨率和制程存在差异,所以,关于芯片国产化的文章中,没有一篇敢说可以逾越ASML13.5纳米光刻机。
我为什敢说,可以逾越AL13.5纳米光刻机,理由是:
第一,13.5纳米光源只能用离轴反射光路,数值孔径一般用到0.12不会超过0.2。而194纳米通过水浸润波长变成140左右,数值孔径可达到0.7,相对孔径达到2:1,这时候194纳米光刻机和13.5纳米光刻机相差无几。注意,光刻机是光刻机,纳米制程是用户实现的,以后讨论。既然光刻机的光源已经不是实现7纳米制程的困难,下面就谈谈光刻机的制造和如何用光刻机,两个问题。
第二,这节讲光刻机设计,制造,材料问题(光刻胶材料单独讲):
一,0.7数值孔径的平场镜设计有难度,但是还是能设计出来的,也仅仅是时间问题,当然计算软件我是自己编的,因为我用商业软件,不知道它在哪里做了近似,在其它应用中没关系,但是这种超高精度还是小心,我是用自己编程的软件设计的。
二,设计不难,光学材料也能国产化,国内有一流光学玻璃制造厂,只是时间问题,退后时间必须足够。还需改善它现有测量精度,重新制造更加抗污染的某些容器。
三,磨玻璃,可以在材料没有出来前开始,只能采用传统工艺,积累经验,至少在正式加工前,把样板磨好,有的可能还要磨对版,同样也是测量问题。
四,最难是镜头装配,需要测量分辨率的平台,还有总装。
这中间就是编写一本光学仪器装校和误差分析的经典教科书!这本来是一门大学课程,但是到了今天,这门课程在国内几乎失传了。
我这样一说,光刻机不就不难,国家光刻机的开发,是从电子学角度开始的,没有从光学角度,而且光学也仅仅是一个配角,他们没有掌握这台仪器的关键,关键部件能买的就买,没有从基础光学原理出发。最后的装配就成瞎子摸象,一台光刻机有几十万零件,没有基础理论,不知道重点在哪里,能不难吗?如果他们从光源原理出发,比如昨天有位问我地基如何处理。那很简单从光学原理出发根据精度需要保持时间计算出振荡频率和振幅,交给从事专业减震专家一起完成。
第三,什么是制过?
昨天的头条,我捅破这张层纸,这里就不多谈了。有人告诉我中芯国际正在和我说的一样在实现7纳米制程。
其实捅破这层纸不需要专业知识,这不需要专业知识,台积电实现了5纳米制程,而美国英特14纳米之后,就没有进展,他们用同样的光刻机都是13.5纳米光源。结论,光刻机有一个理论极限值的分辨率指标,但是我没看到。台积电在这个理论指标下实现了5纳米制程,和ASMAL无关!
好了,194纳米和13.5纳米光刻机的极限分辨率,就因相对孔径的差异,它们的极限分辨率差异不大。
国产光刻机只要做到浸润,浸润难吗?不难,传统显微镜就有浸润硅油目镜。再提高镜头的数值孔径,和ASML的差距几乎拉平。
剩下的就是制程了,也就是台积电使用光刻机的工艺了!我不看好中芯国际,因为它们带有台湾老蒋买办血统,它们缺少独立自主自力更生的精神,中芯国际的人也不过多了一些台积电的经验。我要谈的制程,我不知道台积电的制程做了什么,如何做的,标准是什么。
我要做的是,用基本光学原理,如何提高光刻机的分辨率的方法,工艺,用理论计算是实现它。这里不谈,保密。
最后谈谈光刻胶,因为如何用也是关键技术。日本制裁韩国,三星没有夸下来下跪,那他从哪里拿到光刻胶?当然是过去不达标准的中国光刻胶。说明光刻胶国产也能用在7纳米制程。
也就是说,国内攻克国产化7纳米制程的光刻机,没有不能逾越的困难!
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