佳能1100d和佳能20d，佳能1100d如何连wifi

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谁也想不到，我国自主研发的EUV光刻技术早在5年前就取得了重大突破！EUV光刻已不再是ASML的专利。

本节我来说说光刻机中的关键部件：投影物镜，造它到底有多难？

这么说吧！光刻机必须由顶级的光学公司来支撑，否则必定是枉然。ASML的光刻机的是由德国蔡司支撑的，而尼康和佳能之所以能造成光刻机，理由不用我多说了吧！

我们以制造22纳米芯片的光刻机为例，我们人的头发直径约为80微米，它是22纳米的3600多倍。ASML总裁这么说：如果说光刻机镜头有整个德国那么大，那么镜头中形变最大的地方，不能高过一厘米。可见对于镜头的制造来说，这种要求是多么的苛刻！所以，光刻投影物镜的设计制造。代表着装备制造中精密光学和精密机械的最高水平，是目前人类所能研制的最为精密、最为复杂的光学系统。

2021年全球光刻机出货量约515台，用于芯片生产的光刻机约500台；而面板、LED用光刻机只有15台。其中ASML、尼康、佳能生产的芯片用光刻机就直接占据了478台。 实际上，这三家公司已经垄断了全球的光刻机市场。

而很多人不知道的是，我们国家的光学透镜已经迎头赶上了世界顶级水平。目前我国上海微电子最先进的SSX600系列步进扫描投影光刻机，可以满足芯片前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻需求。据南京茂莱消息，在上海微电子光刻机中运用到了南京茂莱光学生产的光学透镜。但在茂莱光学的2019年至2021年的前五大客户中，我并没有发现上海微电子的名称。

但这一点也不意外！光学没有多年的技术沉淀，是玩不转的。关键时刻，靠的还是咱们国家的国字号。很多人不知道的是我国光学届NO1，长春光机所应用光学国家重点实验室早在2017年6月，其承担的“极紫外光刻关键技术研究”就已经通过了初步验收，并在国内首次获得了EUV光刻出32nm曝光图形，为我国自研芯片奠定了坚实的基础。为长春光机所点赞！同时也要感谢中国光学事业奠基人之一王大珩院士做出的最大贡献！

而长光所的这项研究，也标志着我国自主研发的光刻投影物镜，已经走在世界顶级水平。国产EUV光刻机指日可待！#头号周刊# #光刻机原理# #大有学问#

初夏济南泉城公园米果写真集｜附拍摄攻略

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泉城公园是济南名副其实的网红公园，市中心的宝藏公园。

妹子们一般都在杉树林和温室这两个网红打卡点拍照。

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